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微型電子技術幫助我們制造更智能的手機

時間:2020-04-27 作者:專家委 點擊:47

說起手機,相信大家都不陌生,手機屬于移動終端,是可以握在手上的移動電話機。早期因為個頭較大有大哥大的俗稱,目前已發展至5G時代。1973年4月,美國工程技術員“馬丁·庫帕”發明世界上第一部推向民用的手機,“馬丁·庫帕”從此也被稱為現代“手機之父”。直至現在,手機成為人們生活中非常重要的工具,給人們帶來美好的生活體驗。
 
  隨著科學技術的發展,更多更好的智能產品出現在我們生活當中,2019年,一項新技術被用于制造智能手機,使得這些小巧的智能手機中單個芯片上能容納85億個晶體管。在相同空間中安裝越多的晶體管意味著智能手機、計算機和其他電子設備能實現更快的速度和更強大的功能。這就是利用極紫外線(EUV)制造微型電子設備技術。
 
  極紫外線是一種使用極紫外(EUV)波長的下一代光刻技術,其波長為13.5納米,預計將于2020年得到廣泛應用。幾乎所有的光學材料對13.5nm波長的極紫外光都有很強的吸收,因此,EUV光刻機的光學系統只有使用反光鏡 。
 
  值得指出的是,EUV光刻技術的研發始于20世紀80年代。最早希望在半周期為70nm的節點(對應邏輯器件130nm節點)就能用上EUV光刻機 ?墒,這一技術一直達不到晶圓廠量產光刻所需要的技術指標和產能要求。一拖再拖,直到2016年,EUV光刻機仍然沒能投入量產。晶圓廠不得不使用193nm浸沒式光刻機,依靠雙重光刻的辦法來實現32nm存儲器件、20nm和14nm邏輯器件的生產。不斷延誤,對EUV技術來說,有利也有弊。
 
  一方面,它可以獲得更多的時間來解決技術問題,提高性能參數;另一方面,下一個技術節點會對EUV提出更高的要求。EUV光刻技術的發展能否趕得上集成電路制造技術的要求?這仍然是一個問題。當然,EUV光刻技術的進步也是巨大的。截止2016年,用于研發和小批量試產的EUV光刻機,已經被安裝在晶圓廠,并投入使用 。
 
  最后,小編了解到,使用EUV進行光刻需要一種全新的光學技術:新型UV光源和新型光學器件。EUV需要使用“反射”而不是通常的“透射”光學元件,因為沒有材料可以透射EUV波長的光。另外,還需要一個新環境,由于大氣壓下容易吸收EUV,因此該系統需要在高真空環境下工作。NIST的SURF團隊與業界合作開發了不同方式,與大型公司和行業協會合作,針對新光學器件開發儀器和測試。

(來源:中國儀表網 )

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